一、真空吸鑄法制備非晶材料的第四代真空電弧爐設備用途 ：

用于熔煉高熔點金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進行真空冶金新材料的科研與小批量制備。

二、真空吸鑄法制備非晶材料的第四代真空電弧爐設備主要技術參數：

1、型號：KDH-1000

2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室

3、真空系統配置：TRP-48直聯泵、旁路閥及管道組成。

4、冷態極限真空度≤5Pa

5、熔煉電流：額定電流1000A

6、腔室尺寸：￠400*410

7、電源功率：≤60KW

8、熔煉坩堝設計有五個?40*5圓片型工位，三個?20*10半球形工位。

其中5個工位可帶帶磁攪拌功能。

9、工作氣體：Ar氣；

10、翻料方式：手動懸臂翻料，有機械手翻轉組件

11、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧

12、電極桿和機械手均采用球密封機構，簡便有效；電極桿升降搖擺全部采用電動方式，設計手持式操作按鈕盒，無負重操作方便省力。

13、爐體側部開門，裝卸料方便省去上部打開爐蓋裝卸料的不便，門上有操作觀察窗方便看清內部熔化情況。

14、控制方式：觸摸屏+plc

三、配置清單：

1、電弧熔煉真空室                      1臺

2、水冷電弧槍及電動升降                1支

3、電弧熔煉電源                        1套

4、五工位水冷銅模                      1套

5、翻轉機械手                          1套

6、高真空系統（直聯泵+分子泵-高真空閥門）         1套   

7、惰氣充放系統                        1套

8、鎢電極針                           2件

9、電氣控制系統                        1套

10、產品合格證、使用說明書             1份

11、產品技術資料（合格證使用說明書等） 1份

12、備品備件及專用工具                  1套